scia Clean 1000/1500/3000 - высококачественная чистка и проверка качества образцов до 3 м в диаметре и длиной 3,4 м

scia_Clean_1500

Системы scia Clean 1000/1500/3000 используются для сухой чистки трехмерных изделий массой до 14 тонн. Конструкция и функциональные средства камеры обеспечивают очень хорошее базовое давление и позволяют количественно определять даже небольшие остаточные загрязнения на образце с помощью масс-спектроскопического измерения.

 

ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА

  • Низкое базовое давление и быстрая откачка вакуумной камеры, благодаря прогреваемой камере с электрополированной поверхностьюОтдельный нагрев образца для улучшения десорбции
  • Проверка остаточного загрязнения посредством высокочувствительной масс-спектроскопии
  • Выбираемое количество источников плазмы для улучшенной чистки в водородной плазме Предустановленные наборы настроек для повторяемых диапазонов температур и полностью автоматизированных циклов чистки
  • Подъемно-транспортная система для загрузки тяжелых образцов

СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ

  • Сверхчистая очистка рентгеновской оптики
  • Чистка компонентов для ускорителей
  • Исследование дегазации сложных вакуумных агрегатов

ПРИНЦИП ДЕЙСТВИЯ

  • Сухая чистка
    • Удаление загрязнений с трехмерных образцов с использованием сверхглубокого вакуума
       (вакуумная десорбция)
    • Дальнейший процесс очистки с дополнительным нагревом изделия и / или камеры (термодесорбция) и применением плазменной обработки

P_scia-Clean-1000-3000

Схема scia Clean 1500

Технические характеристики

scia Clean 1000 scia Clean 1500 scia Clean 3000
Размер камеры Ø 1000 мм,
длина 850 мм,
вес 500 кг.		 Ø 1500 мм,
длина 1700 мм,
вес 2 т.		 Ø 3000 мм,
длина 3400 мм,
вес 14 т.
Нагреватель подложки Радиационный нагреватель
(7,5 кВт) до 250 °C		 Радиационный нагреватель
(20 кВт) до 250 °C		 Радиационный нагреватель
(40 кВт) до 250 °C
Камера нагрева и охлаждения Нагрев на водной основе
под давлением до 150 ° C
и охлаждение (16 кВт)		 Нагрев на водной основе
под давлением до 150 ° C
и охлаждение (48 кВт)		 Нагрев на водной основе
под давлением до 150 ° C
и охлаждение (96 кВт)
Источник плазмы До 2 дополнительных источников плазмы ICP (PI400), макс. 2,5 кВт на источник До 10 дополнительных источников плазмы ICP (PI400), макс. 2,5 кВт на источник До 12 дополнительных источников плазмы ICP (PI400), макс. 2,5 кВт на источник
Базовое давление < 5 х 10-9 мбар < 5 х 10-8 мбар
Контроль качества Масс-спектрометр для измерения уровня очистки
Размеры системы (ШхГхВ), м 1.60x1.80x2.70
(без электрической стойки и насосов)		 8.00x4.20x3.60
(с электрической стойкой и насосами)		 15.00x5.50x2.70
(с электрической стойкой и насосами)
Конфигурация Однокамерная с передней дверью, загрузка с помощью транспортных тележек Однокамерная с передней дверью, загрузка через систему перемещения с транспортными держателями
Интерфейс ПО SECS II / GEM, OPC

000pdf Скачать брошюру "scia Clean 1000/1500/3000" (En)