scia Coat 200 для двойного ионно-лучевого осаждения (DIBD)
scia Coat 200 предназначен для однородного покрытия 200 мм подложек, таких как пластины. Обычной областью применения системы являются многослойные плёнки для магнитных датчиков или оптических покрытий.
scia Coat 200 использует ионный луч от ионного источника, сфокусированный на мишени распыления. Луч вспомогательного ионного источника направлен на подложку. Ионной бомбардировкой можно контролировать характеристики плёнки или проводить предварительную очистку подложек.
Если система оснащена ионным источником RF350-е в качестве вспомогательного, становятся доступны процессы ионно-лучевой фрезеровки.
Рис.2 Схема работы scia Coat 200
Особенности
* Вертикальное или лицевой поверхностью вниз положение подложки для минимизации загрязнений
* Круговой напылитель и вcпомогательные источники ионных лучей
* Главный источник распыляет материал с мишени
* Вспомогательный ионный источник луча покрывает всю площадь подложки
* До 4 водоохлаждаемых мишеней с материалом на вращающемся держателе
* Вращающаяся подложка и/или заданный угол поворота
* Угол атаки регулируется наклоном мишеней
Применени
* Магнитоэлектрические многослойные плёнки (GMR, TMR)
* Оптические многослойные покрытия
* Диэлектрические и металлические покрытия
* Предварительной обработка образца (очистки)
Диаграмма пропускания и отражения высокоотражающего зеркала. Осаждение четвертьволнового слоя, состоящего из оксида тантала (V) и диоксида кремния, для высокоотражающего зеркала при 630 Нм. Отражательная способность > 99,9 % и пропускаемость 15-20 ppm.
Технические характеристики
| Диаметр подложки | До 200 мм |
| Держатель подложки | С водяным охлаждением, охлаждаемый контакт с тыльной стороны гелием. Вращение подложки от 5 до 20 об/мин. Поворот на месте от 00 до 1600 с шагом 0,10 . |
| Ионные источники | Источник напыления: круговой РЧ источник 120 мм (RF120-e) Вспомогательный источник: 120 мм круговой РЧ источник (RF120-e) или 350 мм круговой РЧ источник (RF350-e) или 218 мм круговой микроволновый источник ECR (MW218-e) |
| Нейтрализатор | Нейтрализатор плазмы: С канальным катодом N-DC или РЧ N-RF |
| Держатель мишени | Барабан с наклонными и водоохлаждаемыми мишенями, до 5 (каждый макс. Ø 220 мм) или до 4 (каждый макс. Ø 300 мм) |
| Типичные скорости осаждения (нм/мин) | Al:10, Al2O3:15, Ag:35, Si:15, Ti:8, SiO2:20, Ta2O5:15, TiO2:6 |
| Неоднородность | ≤ 0.5 % (σ/среднее) |
| Базовое давление | ≤ 5 х 10-7 мбар |
| Размеры системы (ШхГхВ) | 3.10х1.70х2.40 м для однокамерной (без электрической стойки и насосов) |
| Конфигурация | Одиночная шлюзовая загрузка Кластерная система с кассетной загрузкой |
| Интерфейсы ПО | SECS II / GEM, OPC |
