scia Multi 1500 - система многослойного нанесения покрытия на образцах диаметром до 1500 мм
Система scia Multi 1500 предназначена для создания многослойных покрытий на подложках криволинейной формы. Система безупречно работает в процессе выполнения нескольких сотен циклов создания многослойного покрытия. Благодаря этому возможно получение пленок с высокой гомогенностью или градиентной структуры. Кластерный тип системы (с отдельными рабочими камерами, буферными камерами и загрузочными камерами) одновременно обеспечивает высокую гибкость в отношении конфигурации инструмента и высокую производительность.
ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА
- Создание гомогенных или градиентных пленок на криволинейных поверхностях изделий благодаря синхронизации линейного движения и угловой скорости вращения
- Последовательная конфигурация с несколькими технологическими и буферными камерами для полного пересечения магнетронов
- 4 магнетрона в каждой технологической камере
- Опциональная предварительная обработка с помощью дополнительного ионного источника
- Ориентация подложки лицевой стороной вниз для минимизации загрязнения
СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ
- Градиентные многослойные покрытия рефлекторов для мягкого рентгеновского излучения и антибликовые покрытия
- Многослойные пакеты рентгеновских рефлекторов для тракта луча и для аналитических приложений
- Многослойное покрытие для ультрафиолетовой оптики и систем визуального отображения
Типовой многослойный пакет для рефлекторов мягкого рентгеновского излучения.
ПРИНЦИП ДЕЙСТВИЯ
- Магнетронное напыление
- Последовательная конфигурация с 4 магнетронами в каждом технологическом модуле
- Линейное движение подложки вдоль магнетронов и наложенное на это движение вращение подложки
Технические характеристики
| Диаметр подложки | До 1500 мм; масса до 850 кг |
| Источник напыления | 4 прямоугольных магнетрона (1200 х 90 мм) на камеру, возможен источник ионного пучка |
| Режимы напыления | Постоянный ток или импульсный режим (6 кВт), РЧ (6 кВт, 13,56 МГц) |
| Скорость осаждения | Si: 48 нм/мин; Mo: 78 нм/мин |
| Неоднородность | < 0.5 % (σ/среднее) более Ø 1200 мм |
| Базовое давление | < 2 х 10-8 мбар |
| Размеры системы (ШхГхВ) | 11.00 м x 4.20 м x 5.00 м, для 1 технологической камеры (без шкафа управления и насосов) |
| Конфигурация | Встроенная система с несколькими рабочими камерами и 2 буферными камерами, одним фиксатором подложки, загрузочной и балансировочной стойкой (опционально) |
| Интерфейс ПО | OPC |
Цена
По запросу