scia Multi 680 для осаждения многослойных покрытий магнетронным методом распыления
scia Multi 680 предназначена для осаждения многослойных покрытий на подложках диаметром до 650 мм и весом 50 кг. Обычно применяется для градиентных многослойных покрытий зеркал для слабых рентгеновских лучей и просветляющих покрытий в задачах с УФ и рентгеновского излучения.
scia Multi 680 использует 6 радиально расположенных магнетронов, каждый из которых установлен в отдельном корпусе для индивидуальной подачи газа с заданным профилем эмиссии частиц. Подложка перемещается от позиции к позиции по круговой траектории лицевой поверхностью вниз поворотным диском. Сам подложкодержатель имеет функцию вращения. Каждый поворот создает один период многослойного пакета. Предварительное вычисление профиля вращения позволяет компенсировать индивидуальные профили напыления отдельными магнетронами, получать плёнки с заданным градиентом вдоль оси вращения.
Принцип
• Магнетронное распыление
• Круговое движение подложки над магнетронами, каждое вращение завершает орбиты завершает период нанесения слоя
• Предварительный расчет профилей вращения для компенсации отдельных эмиссионных профилей магнетронов
Принцип вращения подложки scia Multi 680
Особенности
• Манипулятор для переноса подложек из шлюза в рабочую камеру с 2-мя независимыми позициями
• Подложка располагается "лицом вниз"для минимизации загрязнений
• Высокоточные гомогенные или градиентные плёнки на искривлённых подложках с комбинированной скоростью осевого и окружного вращения
• Произвольный порядок перемещения подложек между магнетронами
• Регулируемое расстояние между подложкой и магнетроном
Применение
• Градиентные многослойные покрытия зеркал для мягких рентгеновских и антибликовых покрытий
• Многослойные покрытия для рентгеновских зеркал, ускорителей частиц и аналитических применений
• Многослойные покрытия для УФ передачи и оптики VIS
Пример набора слоев для мягких рентгеновских зеркал.
Технические характеристики
| Диаметр подложки | До 650 мм; масса до 130 кг |
| Источник напыления | 6 прямоугольных магнетронов (600 х 90 мм), возможен источник ионного пучка |
| Режимы напыления | Постоянный ток, импульсный режим, РЧ (1 кВт, 13,56 МГц) |
| Скорость травления | Cr: 45 нм/мин; Si: 22 нм/мин; Ti: 22 нм/мин |
| Неоднородность | < 0.1 % (σ/среднее) более Ø 300 мм, < 0.2 % (σ/среднее) более Ø 450 мм, |
| Базовое давление | < 1 х 10-8 мбар |
| Размеры системы (Ш х Г х В) | 7.90 м x 4.40 м x 3.50 м (без электрической стойки и насосов) |
| Конфигурация | Однокамерная с двойной загрузкой подложки |
| Интерфейс ПО | OPC |
