scia Batch 350, для плазменно-химического осаждения из газовой фазы

scia_Batch_350scia Batch 350 предназначена для однородного покрытия нескольких трёхмерных подложек в одной партии. Обычно применяется для биосовместимых плёнок медицинских объектов.

scia Batch 350 использует параллельно расположенный РЧ электрод с вращением каждой подложки для однородного покрытия всех сторон. Система также доступна с дополнительным DC смещением, подаваемым на подложкодержатель.

 

Особенности

  • Два независимо действующих противоположных РЧ электрода
  • Парный или раздельный режим работы электродов
  • Покрытие трёхмерных подложек в партиях
  • Равномерная подача газа в область разряда с помощью "душа"
  • Держатель подложки с DC смещением

Применение

  • Биосовместимые плёнки для медицинских объектов (например, кардиостимулятор и стенты)
Схема scia Batch 350

Схема scia Batch 350


scia Batch 350-primer primemenia

Пример применения: Стен для эндоваскулярной хирургии.

Технические характеристики

Размер носителя 2 носителя с максимальным размером 350 мм x 240 мм
Держатель подложки Водяное охлаждение, импульсное DC смещение
Источник плазмы Параллельный РЧ электрод, 13,56 МГц
Максимальная РЧ-мощность 2 x 600 Вт
Параметры электрода Температура: Нагрев до 400°C
Расстояние: Регулируется между 50 мм и 150 мм
Режимы работы Совместная или индивидуальная работа электродов
Типичная скорость осаждения
для SiC (без смещения)
5 нм/мин
Базовое давление < 5 х 10-7 мбар
Размеры системы (Ш х Г х В) 0.90 м x 1.70 м x 2.30 м
(без электрической стойки и насосов)
Конфигурация 1 рабочая камера с ручной загрузкой
Интерфейс ПО SECS II / GEM

Эскиз scia Batch 350

000pdf Скачать брошюру "scia Batch 350" (rus. - .pdf)