scia Finish 1500 для устранения дефектов полирования оптических линз и зеркал

scia-Finish-1500

Назначение системы scia Finish 1500 - устранение дефектов формы поверхности оптических элементов высокой точности. Благодаря малым периодам откачки и высокой скорости травления ионным лучом эта система подходит для высокопроизводительного производства с круглосуточной работой без выходных.

ОСОБЕННОСТИ И ПРЕИМУЩЕСТВА

  • Стабильный технологический процесс обработки, позволяющий получать высокую воспроизводимость результатов в долговременном периоде работе.
  • Исключительная точность обработки на оптических поверхностях большой площади
  • Высокие скорости удаления материала обеспечивают большую производительность
  • Удобная загрузка больших изделий благодаря раздвижным дверям
  • Конструкция системы предусматривает укороченные периоды откачки в целях высокопроизводительного производства

СФЕРЫ ПРИМЕНЕНИЯ

  • Устранение дефектов формы поверхности оптических линз и зеркал
    • Зеркала телескопов (материалы Zerodur, SiC, LTEM)
    • Обыкновенная оптика  (очки, линзы и другие оптические устройства из кварцевого или иного стекла)
    • Полировка рентгеновской оптики (на основе кремния)

App_scia-Finish-1500

Смоделированные результаты (слева - до, справа - после) ионно-лучевой обработки поверхности зеркала телескопа из нитрида кремния диаметром более 1500 мм.
Стандартное отклонение: до обработки - 256 нм, после обработки - 1,9 нм.
Диапазон: до обработки - 1550 нм, после обработки - 85 нм.

ПРИНЦИП ДЕЙСТВИЯ

  • Ионно-лучевая обработка поверхности (IBF)
    • Сфокусированный широкий ионный луч сканирует поверхность вертикально установленного образца для уменьшения загрязнения
    • Управление временем воздействия луча для удаления различных количеств материала

P_scia Finish-1500

Размер подложки (до) Ø 1500 мм, 400 кг
Производительность оси Макс. скорость 0.15 м/с, макс. ускорение 15 м/с2
Источник ионного пучка 37-мм круговой РЧ источник (RF37-i) с 7 ... 15 мм (FWHM) или
120 мм круговой РЧ источник (RF120-m) с 16 ... 36 мм (FWHM),
второй источник ионного луча (опционально)
Нейтрализатор РЧ нейтрализатор плазменного моста (N-RF)
Скорость для SiO2
 14 мм3/ч (RF37-i), 96 мм3/ч (RF120-m)
Изменение толщины после полировки < 0,5 Нм RMS (зависит от качества входного сигнала)
Давление < 1x10-6 мбар
Размеры системы (ШхГхВ) 3.60х7.70х3.40 м (без шкафа управления и насосов)
Конфигурация Однокамерная с раздвижными дверцами, ручная загрузка с помощью транспортных тележек, 3, 4 или 5-осевая система управления движением ионного пучка
Интерфейс ПО SECS II / GEM, OPC

000pdf Скачать брошюру scia Finish 1500 (En)

Цена
По запросу